中諾新材采用高純化合物粉末為原料，通過常壓燒結法、真空熱壓法以及熱等靜壓法等工藝成型，經過精密的機械加工工藝，制得晶粒細小、組織均勻、致密度高的高品質陶瓷化合物靶材，被廣泛應用于太陽能光伏、平面顯示、玻璃鍍膜等領域。

中諾新材可根據您的需求，為您定制不同化合物，不同比例的摻雜靶材。通過球磨制粉，共沉積制粉，真空熱壓燒結，常壓燒結等工藝，可保證靶材摻雜比例準確，摻雜相單一，致密度高。

中諾新材可提供的常規陶瓷靶材如下：

氧化鋁靶 Al2O3 99.99%

氧化鉿靶 HfO2 99.99%

氧化鎂靶 MgO 99.99%

氧化硅靶 SiO2 99.999%

氧化鉭靶 Ta2O5 99.99%

氧化鈦靶 TiO2 99.99%

氧化鋅靶 ZnO 99.99%

氟化鎂靶 MgF 99.99%

硫化鋅靶 ZnS 99.99%

氮化鈦靶 TiN 99.9%

氮化鋁靶 AlN 99.9%

氮化硼靶 BN 99.9%

碳化硅靶 SiC 99.9%

常備現貨的靶材尺寸：

φ50.8mm  φ60mm

φ80mm,

φ100mm φ101.6mm

其它尺寸圓靶、方靶可定制

陶瓷靶材質脆，受熱不均易碎，推薦綁定銅背靶，以增強靶材導熱性能，提供靶材利用率

中諾新材分析測試設備——晶相檢測分析儀                                          

  金相顯微鏡可以對Al、Ti、Ta、Cu、W、Mo、Co、Ni等金屬及其合金材料進行專業的金相分析。中諾新材可以提供各種電解態、還原態和蒸餾態的稀土金屬材料，并且可以加工成靶材，顆粒，片狀，棒狀等，滿足您不同用途的需求。該儀器的物境倍數：5X 10X 20X 40X，目鏡倍數：10X，可擴展性：可配圖像分析系統(數碼相機、攝像頭、圖像分析軟件，采用TCI金相圖像分析系統V2.0，可對材料顯微組織、低倍組織和斷口組織等進行分析研究和表征，包含材料顯微組織的成像及其定性、定量表征，主要反映和表征構成材料的相和組織組成物、晶粒（亦包括可能存在的亞晶）、非金屬夾雜物乃至某些晶體缺陷（例如位錯）的數量、形貌、大小、分布、取向、空間