東莞市大嶺山展立五金模具加工廠主營：鍍鈦,沖棒鍍鈦,鍍鈦加工

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術的主要特點和優勢

和真空蒸發鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優點：

1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨

2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件

3．膜層沉積速率快，生產效率高

4．可鍍膜層種類廣泛

5．膜層性能穩定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）

 PVD鍍膜（離子鍍膜）技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

PVD涂層技術可以廣泛應用于各類磨損、咬合、腐蝕、粘著、融合等而引起失效的工具、模具、機械零件、等。其中，因磨損引起的失效的產品（如：沖裁、冷鐓、粉末成型等）涂層后可提高壽命2-20倍以上；因咬合引起產品或模具的拉傷問題（如：引伸模、拉伸模、翻邊模等），涂層后可以從根本上予以解決。

它是廣泛應用的工業超硬薄膜技術，以其高硬度、低磨損率、低磨擦系數、強抗腐蝕性、抗黏著性等優越的使用性能廣泛應用于模具工業中。

什么是真空鍍膜設備？

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過蒸發鍍膜設備+所鍍產品圖蒸發鍍膜設備+所鍍產品圖程，終形成薄膜。