徠卡低真空鍍膜儀 Leica EM ACE200 電鏡制樣設備 富萊
徠卡低真空鍍膜儀 Leica EM ACE200 電鏡制樣設備 富萊
徠卡低真空鍍膜儀 Leica EM ACE200 電鏡制樣設備 富萊
徠卡低真空鍍膜儀 Leica EM ACE200 電鏡制樣設備 富萊

徠卡低真空鍍膜儀-Leica-EM-ACE200

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¥28000.00

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聯系人 魯飛宇

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發貨地 上海市浦東新區
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品牌 富萊
產品名稱 徠卡低真空鍍膜儀 Leica EM ACE200
所屬類別 電鏡制樣設備
在線 24小時
可售賣地 全國
真空度: 7×10-3mbar
樣品倉尺寸: 140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)
濺射電流: 0-150mA可調
產品介紹 見詳情
工作距離調節范圍: 30mm-100mm
商品介紹


徠卡低真空鍍膜儀 Leica EM ACE200

樣品進行掃描電鏡觀察前,通常需要對其表面鍍一層金屬膜,以便減少觀察時產生的荷電,并增強二次電子或背散射電子信號,獲得更好的信噪比。Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸...

樣品進行掃描電鏡觀察前,通常需要對其表面鍍一層金屬膜,以便減少觀察時產生的荷電,并增強二次電子或背散射電子信號,獲得更好的信噪比。

Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發鍍碳膜功能,或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求,也可用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網鍍碳膜。全自動電腦控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等全過程,一鍵操作。采用當下非常流行的觸摸屏控制,簡單方便。

主要技術參數:

? 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發鍍碳模式,或者雙模式,可選輝光放電(用于網格表面親水化)

? 設計脈沖式碳絲蒸發方式,可控制碳膜厚度

? 可選石英膜厚檢測器,控制鍍膜厚度,精度達0.1nm

? 全自動程序控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等過程

? 觸摸屏控制,簡單方便

? 真空度7×10-3mbar

? 濺射電流:0-150mA可調

? 方形樣品倉設計,樣品倉尺寸:140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)

? 工作距離調節范圍:30mm-100mm

聯系方式
公司名稱 上海富萊光學科技有限公司
聯系賣家 魯飛宇
手機 莸莶莵莸莹莽莼莶莵莵莶
地址 上海市浦東新區