濟南巴克超聲波科技有限公司主營：超聲波清洗設備,工業清洗設備,噴淋清洗機,碳氫清洗機

此方法適用于除去氧化膜或有機物。因為化學物質在硅片表面停留的時間比較短，對反應需要一定時間的清洗效果不好。在噴洗過程中所使用的化學試劑很少，對控制成本及環境保護有利。

隨著集成電路制程工藝節點越來越先進，對實際制造的幾個環節也提出了新要求，清洗環節的重要性日益凸顯。

清洗的關鍵性則是由于隨著特征尺寸的不斷縮小，半導體對雜質含量越來越敏感，而半導體制造中不可避免會引入一些顆粒、有機物、金屬和氧化物等污染物。為了減少雜質對芯片良率的影響，實際生產中不僅僅需要提高單次的清洗效率，還需要在幾乎所有制程前后都頻繁的進行清洗，清洗步驟約占整體步驟的33%。

旋轉噴淋清洗機簡介

3.清洗工藝流程

3.1清洗機動作描述：工件經工人裝入清洗機入清洗腔→關閉密封門→雙手按下啟動按鈕→噴淋管開始工作→工作轉臺360度旋轉。）→清洗結束后管道自動切換到吹氣系統→對工件進行脈沖狀的切水處理→切水結束后密封門打開→人工下料

適用：該設備適用于汽車、工程機械、航空航天等行業的各類結構復雜五金零件、油泵閥體清洗。

機械零部件清洗機清洗機

一、 主要參數（一道清洗+一道風切）：

1、清洗節拍：180S以上；

2、清洗壓力：0.4Mpa以上；

3、裝機功率約：15KW；

4、占地尺寸約： 1200 L *1500W*1500H（mm）；

二、 單工位旋轉噴淋清洗機主要優勢：

1、占地面積小，節約場地；

2、兼容性高，可兼容多種產品（無清潔度要求或清潔度要求較低）；

3、三級循環過濾，有效延長清洗液的使用時間；

4、儲液槽外貼保溫棉，節約能源；