北京科創鼎新真空技術有限公司主營：氦檢漏設備,氦質譜檢漏儀,LNG抽真空設備

用氦氣作為氦質譜檢漏氣體的原因

1、氦在空氣中及真空系統殘余氣體中的含量(在空氣中約含5.2ppm)， 在材料出氣中也很少，因此本底壓力小，輸出的本底電流也小。正因為本底小，由某些原因引起本底的波動，亦即本底噪聲也

就小，因此微小漏率也就能反應出來，靈敏度高。

2、氦的質量小(相對分子質量為4)，易于穿過漏孔。這樣，氦較除氫以外的其他氣體通過同-漏孔的漏率就大，容易發現，靈敏度高。

氦質譜檢漏儀的基本原理與結構

氦質譜檢漏儀一般由質譜管,真空系統和電子系統組成。其中質譜管包括離子源，質量分析器和離子檢測器;真空系統-般由分子泵機械泵、電磁閥和真空計組成。離子源的作用是將原子電離成帶電離子并聚焦成束，以-定能量注入質分析器，目前常用的電子轟擊型離子源有尼爾型和震蕩型兩種形式。質分析器的作用起將各類離子按其質荷比的不同實現分離。子檢測器的作用是手機質星分析器所選定的氦離子流并加以放大，再通過比對運算，得出泄漏率

真空系統的作用是獲取質譜過程所需的真空，同時完成被檢件的抽空和氦氣的引入。空系統-般由分子泵、機械泵、電磁閥和真空計組成組成。按照真空系統的不同結構，檢漏儀分為常規系統和逆擴散兩種。常規系統多用于早期的氦質譜檢漏儀,該種檢漏儀的被檢件與高真空部分直接相通，由被檢件泄入的氮氣首先到達質譜管被檢到，因而具有較高的靈敏度,但是會對質譜管有污染。逆擴散系統檢漏儀與常規系統相比，被檢件只與低真空相通,因

此只需將被檢工件抽至低真空就能進行檢漏，氦氣是逆擴散到質譜管,不會對系統有污染,因此被廣泛采用,已成為市場的主品。

機械泵的工作方式不-樣,分為干泵檢漏儀和油泵檢漏儀，油泵工作會有油霧排出,污染工作環境，干泵沒有油霧排出對工作環境沒有影響。在半導體潔凈車間都是使用干泵檢漏儀。

半導體設備及材料需要檢漏原因

1、半導體設備要求高真空，比如磁控濺射臺、電子束蒸發臺、ICP、PECVD等設備。出現泄漏就會導致高真空達不到或需要大量的時間，耗時耗力；

2、在高真空環境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現泄漏周圍環境中的灰塵和懸浮顆粒或塵埃就會對晶元造成污染，對半導體的特性改變并破壞其性能，因此在半導體器件生產過程中必須進行氦質譜檢漏；

3、一些半導體設備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體，經過氦質譜檢漏后，在低漏率真空條件下，這些氣體不易外泄，設備能及時抽走未反應氣體和氣態反應產物，保障工作人員安全和大氣環境。

4、芯片封裝，一旦出現泄漏，芯片就會失效。