京邁研靶材小店
主營產品: 金屬靶材,陶瓷靶材和合金靶材
京邁研3424-氮化鉭靶材-TaN磁控濺射材料-電子束鍍膜蒸發
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京邁研3424 氮化鉭靶材 TaN磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料
【參數說明】
支持靶材定制,請提供靶材產品的元素、比例(重量比或原子比)、規格,我們會盡快為您報價!!
【產品介紹】
ε氮化鉭為黑色六方結晶。相對密度13.4;熔點3090℃;顯微硬度1100kg/m2;熱導率9.54W/ m·K ,電阻率128μΩ·cm。δ氮化鉭為黃綠色結晶,屬氯化鈉型結晶,相對密度15.6。晶格常數a=0.4336nm,c=0.4150nm,熔點2950℃,顯微硬度3200kg/mm2,轉化點溫度17.8K。不溶于水、酸,微溶于王水,溶于氫氧化鉀并分解釋放出氨。加熱至2000℃即釋放出氮氣。
中文名 | 氮化鉭 | 熔點 | 3090℃ |
化學式 | TaN | 沸點 | 未確定 |
分子量 | 612.8771 | 密度 | 13.4g/cm3 |
【關于我們】
服務項目:靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款,質量保證,售后無憂!
產品附件:發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備
質量控制:嚴格控制生產工藝,采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質檢報告。
加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差,連續長時間濺射易發生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您,選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!
我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無氧銅作為背靶。
注 :高純銦的熔點約為156℃,靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!
建議:陶瓷脆性靶材、燒結靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過3W/cm2。
我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材,歡迎您的垂詢。