DVIA- MO系列高精密主動隔振光學平臺為韓國DAEIL株式會社生產的主動隔振光學平臺，由臺面和主動隔振支撐兩部分組成。

臺面采用三層夾心式蜂窩結構，上臺面材料采用SUS430高導磁不銹鋼，內核為鋼制 真蜂窩結構，將0.25mm厚度的鋼板加工成蜂巢結構，采用先進的粘合工藝，底面為鋼板， 保證了臺面的高剛性和優良的隔振效果。臺面均布25mm×25mm標準M6螺紋孔，方便安 裝各種位移臺和調整架，每個螺紋孔下方具有獨立的隔離杯密封，方便清潔。 

主動隔振支撐部分主要包括被動隔振機構和主動隔振器DVIA- M，每個支撐里面一般 會有4個DVIA- M系列主動隔振器和一臺主控箱。主動隔振器包含了采集信號的傳感器和消 除振動的驅動器，主要消除0.5~10Hz的外部振動，被動隔振系統部分同時承擔著支撐負載 和隔絕高頻率振動的作用。 

該系列平臺可以在低頻范圍（0.5~10Hz）提供非常卓越的隔振性能，它可以應用于很 多對隔振要求非常高，甚至具有挑戰的領域，比如高分辨率的光譜儀，高分辨率的電子顯微 鏡和精密納米科學研究等。 

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