主要構成
     主要由對準工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統、LED曝光頭、PLC電控系統、氣動系統、真空管路系統、直聯式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。

主要技術指標：

1、曝光類型：單面；配置4"LED用曝光頭

2、曝光面積：110×110mm；

3、曝光照度不均勻性：≤±3%；

4、曝光強度：0～30mw/cm2可調；

5、紫外光束角：≤3?0?8；

6、紫外光中心波長：365nm；

7、紫外光源時間：≥2萬小時；

8、采用電子快門；

9、曝光分辨率：1μm

10、顯微鏡掃描范圍：X： ±15mm   Y：±15mm；

11、對準范圍：X、Y 調節 ±4mm；Q向調節±3°；

12、套刻精度：1μm；

13、分離量；0～50μm可調；

14、曝光方式：接觸式曝光，可實現硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光；

15、找平方式：氣浮找平；

16、掩模版尺寸：≤127×127mm；

17、基片尺寸：≤Φ102mm(或者102×102mm)；

18、基片厚度：≤5 mm；

19、曝光定時：0～999.9秒可調；

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