目前直讀光譜儀被得到了廣泛的應用，在關于鋁及鋁合金的分析中使用光電直讀光譜儀，使用直讀光譜儀分析鋁及鋁合金得到準確的結果,需要做到以下幾點：
一、要做好標準化工作。為了調節因電子元件、光源、分光系統等因素的變化而引起的工作曲線的漂移,分析試樣前應對工作曲線做好標準化。
二、合理使用標樣或控樣。為了解決因進口的標準化樣品與本廠試樣結構狀態等不同而造成的差異及第三元素的影響,應采用與待測試樣成分相近、組織結構相同的標樣或控樣來校正。
三、分析標樣或控樣與分析試樣時的條件必須一致,方能保證試樣分析數據準確可靠。這些條件包括:分析面的平整度、光潔度,氬氣的流量和純度,溫度濕度,分析間隙和火花臺狀況等。
四、儀器維護非常重要,特別是日常維護內容必須及時完成,這是保證儀器良好運行的前提。平時工作時要留心觀察,當聽到聲音不正常或看到不正常現象,或聞到不正常的氣味時,要立即停止分析,及時檢查、判斷、處理,儀器正常后方可進行分析工作,切不可讓儀器帶病工作。

Labspark 750T 精密直讀火花光譜儀技術參數
Labspark 750T 技術優勢
?激發能量、頻率連續可調全數字固態光源，適應各種不同材料。
?獨特的恒溫式火花臺設計，環狀氬氣流方式，保證連續激發狀態下儀器的穩定性，避免使用水冷帶來的不利影響。
?安全防護設備阻止不安全激發。
?銅基座火花臺，火花臺易于拆卸，便于清潔。
?帶有獨特配件，易于檢測多種形狀的分析對象（餅狀、棒狀、線狀）。
?一體式透鏡隔離閥，可防止因日常維護導致的光室污染影響強度下降，透鏡易于更換。
?放電室設計獨特，保證放電在條件下進行。
?激發電極為鎢電極。
?帕邢 - 龍格架發，高發光全息光柵。
?光柵焦距 750mm，刻線為 2400 條 /mm，
?譜線范圍：120-800nm。
?色散率：一級色散率：0.55nm/mm， 二級色散率：0.275nm/mm。
?分辨率：優于 0.01nm。
?整體出射狹縫調試方便、快捷、便于用戶增加更改通道，節約成本。
?光柵、光電倍增管等核心部件全部進口。
?真空度由真空泵和真空控制設備控制。
?鑄鐵光室，熱膨脹系數低，保證真空度的要求。
?采用納克公司獨創的金屬原位分析儀的核心關鍵技術 -- 單次放電采集解析技術（Single Discharge Analysis，SDA）。
?世界首創的多通道同步描跡提高儀器穩定性。
?延時積分技術，國內空白、，不同的通道采用不同的積分起始時間。
?內部恒溫系統，不同的部位采用不同的恒溫條件，大大減少了外部環境變化對儀器的影響（控制精度 ±0.1℃）
?連續可調光源，對不同的材質可以匹配不同的光源實現的分析結果。
?模塊化的電路設計，維修方便快捷，為遠程診斷做好了準備。
?軟件可調獨立高精度負高壓模塊，負高壓精度＜ 0.05%。
?負高壓可由分析程序控制，調高分析程序的分析精度，擴展元素的分析范圍。
?實時監控各通道負高壓、 光室溫度、火花臺溫度、真空度等重要參數，確保儀器長時間穩定運行。
?各光電倍增管負高壓獨立 供電，消除相互干擾，運行更可靠。
?根據分析需要，可程序調整，拓寬反分析范圍。
?包括不同基體不同曲線的計算，全中文分析軟件，方便用戶操作，第三元素干擾校正，提高分析準確度。

根據儀器的結構不同,又可分為多道直讀光譜儀和全譜直讀光譜儀,其中前者多采用光電倍增管作為檢測器,后者多采用陣列檢測器(如CCD).
隨著CCD技術的不斷發展,直讀光譜儀開始朝小型化、全譜型方向發展.小型化儀器功耗小,占用空間小且易于維護;全譜直讀光譜儀能夠獲得全波段范圍內的光譜,滿足多基體分析要求,譜線選擇靈活,可以有效扣除光譜干擾,分析更準確,而多道直讀光譜儀只能檢測有限數量的光譜,很難做到這一點.

光譜起源于17世紀，1666年物理學家牛頓次進行了光的色散實驗。他在暗室中引入一束太陽光，讓它通過棱鏡，在棱鏡后面的自屏上，看到了紅、橙、黃、綠、蘭、靛、紫七種顏色的光分散在不同位置上——即形成一道彩虹。這種現象叫作光譜．這個實驗就是光譜的起源，自牛頓以后，一直沒有引起人們的注意。
經歷了100多年的發展探索與研究，1859年克希霍夫和本生為了研究金屬的光譜自己設計和制造了一種完善的分光裝置，這個裝置就是世界上臺實用的光譜儀器，研究火焰、電火花中各種金屬的譜線，從而建立了光譜分析的初步基礎。直至1882年，羅蘭發明了凹面光柵，即是把劃痕直接刻在凹球面上。凹面光柵實際上是光學儀器成象系統元件的合為一體的高效元件，它解決了當時棱鏡光譜儀所遇到的不可克服的困難。凹面光柵的問世不僅簡化了光譜儀器的結構，而且還提高了它的性能。
1928年以后，由于光譜分析成了工業的分析方法，光譜儀器得到迅速的發展，一方面改善激發光源的穩定性，另一方面提高光譜儀器本身性能。
早的光源是火焰激發光譜；后來又發展應用簡單的電弧和電火花為激發光源，在上世紀的三十、四十年代改進采用控制的電弧和電火花為激發光源，提高了光譜分析的穩定性。工業生產的發晨，光譜學的進步，促使光學儀器進一步得到改善，而后者又反作用于前者，促進了光譜學的發展和工業生產的發展。
六十年代光電直讀光譜儀，隨著計算機技術的發展開始迅速發展。由于計算機技術的發展，電子技術的發展，電子計算機的小型化及微處理機的出現和普及，成本降低等原因、于上世紀的七十年代光譜儀器幾乎100％地采用計算機控制，這不僅提高了分析精度和速度，而且對分析結果的數據處理和分析過程實現自動化控制。
解放后，我國的光譜儀器工業從無到有，由小到大，得到飛躍的發展，且具有一定的規模，與世界先進技術競爭中求生存，社會商品競賽中得到發展。
1958年開始試制光譜儀器，生產了我國臺中型石英攝譜儀，大型攝譜儀，單色儀等。中科院光機所開始研究刻制光柵，59年上海光學儀器廠，63年北京光學儀器廠開始研究刻制光柵，63年研制光刻成功。1966—1968年北京光學儀器廠和上海光學儀器廠先后研制成功中型平面光柵攝譜儀和一米平面光柵攝譜儀及光電直讀頭。1971—1972年由北京第二光學儀器廠研究成功國內臺WZG—200平面光柵光量計，結束了我國不能生產光電直讀光譜儀的歷史。