鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統
Plasma 3000ICP光譜儀采用徑向觀測與軸向觀測設計，適應亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。 優化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開機即可測量。 包圍式立體控溫系統，保障光學系統長期穩定無漂移。
光源
固態射頻發生器，高效穩定，體積小巧，效率高，匹配速度快，鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應各種復雜基體樣品及揮發性有機溶劑的測試，均能獲得優異的長期穩定性。 垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術，地降低自吸效應和電離干擾，從而獲得更寬的動態線性范圍和更 低的背景，保證準確的測量結果。 具有綠色節能待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約使用成本。
簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，精確的位置重現。 實時監控儀器運行參數，高性能CAN工業現場總線，保障通訊高效可靠。
進樣系統
簡潔的炬管安裝設計，自動定位炬管位置，精確的位置重現。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經過優化的進樣系統，可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫氟酸（HF） 等樣品的測試。
使用可拆卸式或一體式炬管，易于維護，轉換快速，使用成本低。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩定。 多通道12滾輪蠕動泵，提升樣品導入穩定性。
檢測器
大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應，高紫外量子化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動態范 圍和極快的信號處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準確的分析結果。Plasma 3000 ICP光譜儀具有同類產品中靶面尺寸，百萬級像素，單像素面積24μm X 24μm，三級半導體制冷,制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩定性。
軟件系統
人性化的界面設計，流暢易懂，簡便易用，針對分析應用優化的軟件系統，無須復雜的方法開發， 即可快速開展分析操作。
豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置，直觀的測試結果顯示。
安全防護
全方位電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護，避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗

Plasma 2000 技術特點
1. 優異的光學系統
2. 固態高效射頻發生器，體積更加小巧
3. 流程自動化，狀態監控及自動保護
4. 科研級檢測器，極高的紫外量子化效率
5. 強大分析譜線
6. 信息直觀豐富
7. 多窗口多方法
8. 編輯功能強大
9. 智能譜圖標定
10. 智能干擾矯正

鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數
1. 光學系統：中階梯二維分光光學系統，焦距400mm
2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學分辨率：0.007nm（200nm處）
3. 光柵規格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm
4. 晶體管固態射頻發生器，小巧高效
5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限
6. 自動匹配調節
7. 全組裝式炬管，降低了維護成本
8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵，具有快速清洗功能
9. 實驗數據穩定性良好：重復性 RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩定性：RSD ≤2.0%（大于3小時）

ICP光譜儀安裝要注意哪些細節方面
只有正確的安裝ICP光譜儀設備才能使設備的使用壽命加長，那我們在安裝ICP光譜儀時要注意什么呢?今天為大家簡單的介紹一下。
1、要有良好的用電環境，ICP在點火的瞬間，功率還是很大的，所以電源要不低于10千瓦，實驗室要單獨供電，特別是企業，不要和其它大功率的生產設備共用電源，因為其它大功率設備啟動時會對儀器測試造成比較大的影響，甚至損壞儀器。電壓要相對穩定，頻率也要穩定，可以用示波器去監測，要有良好的正弦波形，不能有脈沖或方波。好要有穩壓電源，向廠家咨訊購買何種型號的穩壓電源。不是每一種穩壓電源都是可以使用的。我也曾遇到過電的問題，企業有可控硅生產線，結果整個電網頻率不穩，儀器怎么調也不穩，后來單獨拉了一條線，一切搞定。
2、ICP光譜儀在使用中要有良好的通風，所以至少要在實驗室留下安裝通風的位置。也不要在沒有廠家安裝圖紙的情況下安裝好通風，到時候儀器來了有可能位置高度均不合適，哪樣就得重新安裝通風。如果想提前安裝，可以詢問廠家，一般廠家都會提供一個詳細的安裝圖紙，可以按圖紙安裝。
3、一般的ICP光譜儀是需要地線的，可能有的廠家對地線還有一定的要求，這時候就要詢問廠家，是否需要單獨的地線。