日本Savina ck無塵布超細纖維無塵布Savina mx無塵擦拭布minimax無塵布

Savina MX超細纖維無塵布

日本原裝正品

Savina Minimax無塵擦拭布

Savina MX用于輕松應對時代的需求，同時具備足以應對要求高的潔凈室中的極，限無塵條件的出色功能.

Savina Minimax是日本KBSEIREN株式會社（原KANEBO）開發的目前較高級的無塵擦拭布系列產品，吸水吸油性極，強，不磨損原件。廣泛用于光學鏡頭制造，辦公器材保養，10級以上的無塵車間凈化室，半導體生產線車間等領域。

高科技領域正日益精密和復雜。對于LSI和LCD等產品生產過程中所需的嚴格無塵環境而言，高效擦拭布是必備要素。Savina MX能夠輕松滿足時代需求，具有出色的功能，足以應對超，級無塵室中的極，端無塵條件。

Savina ck用于輕松應對時代的需求，同時具備足以應對要求高的潔凈室中的極，限無塵條件的出色功能.是日本KBSEIREN株式會社（原KANEBO）開發的目前較高級的無塵擦拭布系列產品，吸水吸油性極，強，不磨損原件。廣泛用于光學鏡頭制造，辦公器材保養，10級以上的無塵車間凈化室，半導體生產線車間等領域。高科技領域正日益精密和復雜。對于LSI和LCD等產品生產過程中所需的嚴格無塵環境而言，高效擦拭布是必備要素。Savina CK能夠輕松滿足時代需求，具有出色的功能，足以應對超，級無塵室中的極，端無塵條件。

無塵室中所使用的擦拭布應當能夠清潔所有儀器、器械和外圍設備，同時不會造成污染。擦拭布還要能夠吸收并清除多余的水分。Savina CK具備此類擦拭布所需的所有屬性，是性能較好的擦拭布之一，專為高科技時代而設計。

Savina MX在專門的細針距針織機上編制而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達到其原始尺寸的40%。它未經任何粘合劑處理，就達到了這樣的致密結構。所得擦拭布表面積高達25,700 c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/gSavina CK在專門的細針距針織機上編制而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達到其原始尺寸的40%。它未經任何粘合劑處理，就達到了這樣的致密結構。所得擦拭布表面積高達25,700 c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/g

特點是：掉毛量極少。? 迅速而積極地吸收并留住水分。? 殘留離子和其他物質的溶解率較低。? 具備高端的擦拭布性能（灰塵清除量較大，同時不會污染無塵室設備）。

用途：光磁盤、硬盤和軟盤的生產過程? 液晶偏轉板以及其他物品的生產過程? 光盤和磁盤的生產過程? 錄像機的生產過程? 隱形眼鏡的生產過程? 相機裝配線? 印刷電路板的清潔工藝? 相機鏡頭鍍膜前的清潔工藝? 藥品生產線清潔工藝? 電影膠片清潔工藝? 半導體和基礎電路的生產過程? 精密涂層之前工件的清潔過程

savina ck無塵布